Author: 공과대학 교학팀

차세대 반도체 공정기술로서의 3차원 패터닝 기술

Abstract 차세대 반도체 공정기술로서의 3차원 패터닝 기술 (3D Nanopattering as the Next-Generation Processing Technology of Semiconductors) Seokwoo Jeon Department of Materials Science and Engineering, Advanced Battery Center, KI for the Nano Century, KAIST, 291 Daehak-ro, Yuseong Gu, Daejeon 34141, Korea Email: jeon39@kaist.ac.kr     근접장 나노패터닝 기술은 (PnP) 3차원 광학 간섭을 이용하여 반도체에서...